-
![715-330834-002 Dhsg, Lwr Rctn Chmbr, Enh 2nd Source ใหม่]()
715-330834-002 Dhsg, Lwr Rctn Chmbr, Enh 2nd Source ใหม่715-330834-002 DHSG, LWR RCTN CHMBR, ENH. แหล่งที่ 2 ใหม่. ลำวิจัย.
-
![0040-39883 5000/5200 ห้อง WXZ]()
0040-39883 5000/5200 ห้อง WXZ0040-39883 5000/5200 ห้อง WXZ. แหล่งที่ 2 ใหม่.
-
![0040-09094 ห้อง 200 มม]()
0040-09094 ห้อง 200 มม0040-09094 ห้อง 200 มม. แหล่งที่ 2 ใหม่.
-
![215-00042-000-A05 ห้องกระบวนการ]()
215-00042-000-A05 ห้องกระบวนการ215-00042-000-A05 ห้องกระบวนการ. แหล่งที่ 2 ใหม่.
-
![0040-13865 Booy 200mm Chamber Producer]()
0040-13865 Booy 200mm Chamber Producer0040-13865 Booy 200mm Chamber Producer. แหล่งที่มาใหม่ใหม่.
-
![715-028405-001 ที่อยู่อาศัย ห้องปฏิกิริยาตอนล่าง]()
715-028405-001 ที่อยู่อาศัย ห้องปฏิกิริยาตอนล่าง715-028405-001 ที่อยู่อาศัย ห้องปฏิกิริยาตอนล่าง. ลำวิจัย.
-
![0021-36743 Dps Poly Lower Chamber แหล่งที่ 2 ใหม่]()
0021-36743 Dps Poly Lower Chamber แหล่งที่ 2 ใหม่0021-36743 ห้องด้านล่างโพลี DPS. แหล่งที่ 2 ใหม่. อมัท เซ็นทูรา 5200 ดีพีเอส โพลี.
-
![0040-09723 -unibody, Etch Chamber 2nd Source ใหม่]()
0040-09723 -unibody, Etch Chamber 2nd Source ใหม่0040-09723 -Unibody, Etch Chamber. แหล่งที่ 2 ใหม่. อมตะ เมทัล เอตช์ 5000.
-
![0040-31942 ตัวห้อง, กัดกรด, ออกไซด์, ตัวจ่ายแก๊สด้านข้าง แหล่งที่ 2 ใหม่]()
0040-31942 ตัวห้อง, กัดกรด, ออกไซด์, ตัวจ่ายแก๊สด้านข้าง ...0040-31942 ตัวห้อง, ETCH, ออกไซด์, ฟีดแก๊สด้านข้าง. แหล่งที่ 2 ใหม่. AMAT Centura 5200 MXP+.
-
![0040-04745 Chamber Body Hdp-cvd แหล่งที่ 2 ใหม่]()
0040-04745 Chamber Body Hdp-cvd แหล่งที่ 2 ใหม่0040-04745 ตัวห้อง HDP-CVD. แหล่งที่ 2 ใหม่.
-
![715-330106-003 Chsg Mdl Rctn Chmbr Fxd Gap แหล่งที่ 2 ใหม่]()
715-330106-003 Chsg Mdl Rctn Chmbr Fxd Gap แหล่งที่ 2 ใหม่715-330106-003 CHSG MDL RCTN CHMBR FXD GAP. แหล่งที่ 2 ใหม่. ลำวิจัย.
-
![0040-04745 Chamber Body Ultima Hdp-cvd แหล่งที่ 2 ใหม่]()
0040-04745 Chamber Body Ultima Hdp-cvd แหล่งที่ 2 ใหม่0040-04745 ตัวห้อง Ultima Hdp-cvd. แหล่งที่ 2 ใหม่. อมตะ เซ็นทูรา 5200 HDP-CVD.
เจมส์เวนเกอร์
George Colley
โจเซฟเทย์เลอร์
คริสโตเฟอร์เกรียร์
David Stanley
Elsie Cole