-
![0040-13865 Booy 200mm Chamber Producer]()
0040-13865 Booy 200mm Chamber Producer0040-13865 Booy 200mm Chamber Producer. แหล่งที่มาใหม่ใหม่.
-
![0040-02544 ร่างกายส่วนบน, Dps Metal แหล่งที่ 2 ใหม่]()
0040-02544 ร่างกายส่วนบน, Dps Metal แหล่งที่ 2 ใหม่0040-02544 ตัวเครื่องส่วนบน โลหะ DPS. แหล่งที่ 2 ใหม่. อมัท เซ็นทูรา 5200 ดีพีเอส.
-
![0040-01973 REV.004 ห้องด้านล่าง RADIANCE 200MM RTPw]()
0040-01973 REV.004 ห้องด้านล่าง RADIANCE 200MM RTPw0040-01973 REV.004 ห้องด้านล่าง RADIANCE 200MM RTP. แหล่งที่ 2 ใหม่.
-
![0040-39883 5000/5200 ห้อง WXZ]()
0040-39883 5000/5200 ห้อง WXZ0040-39883 5000/5200 ห้อง WXZ. แหล่งที่ 2 ใหม่.
-
![0040-09094 ห้อง 200 มม]()
0040-09094 ห้อง 200 มม0040-09094 ห้อง 200 มม. แหล่งที่ 2 ใหม่.
-
![215-00042-000-A05 ห้องกระบวนการ]()
215-00042-000-A05 ห้องกระบวนการ215-00042-000-A05 ห้องกระบวนการ. แหล่งที่ 2 ใหม่.
-
![715-028405-001 ที่อยู่อาศัย ห้องปฏิกิริยาตอนล่าง]()
715-028405-001 ที่อยู่อาศัย ห้องปฏิกิริยาตอนล่าง715-028405-001 ที่อยู่อาศัย ห้องปฏิกิริยาตอนล่าง. ลำวิจัย.
-
![715-031986-005 ห้องปฏิกิริยา Hsg Lwr แหล่งที่ 2 ใหม่]()
715-031986-005 ห้องปฏิกิริยา Hsg Lwr แหล่งที่ 2 ใหม่715-031986-005 ห้องปฏิกิริยา HSG LWR. แหล่งที่ 2 ใหม่. แลม.
-
![0040-31942 ตัวห้อง, กัดกรด, ออกไซด์, ตัวจ่ายแก๊สด้านข้าง แหล่งที่ 2 ใหม่]()
0040-31942 ตัวห้อง, กัดกรด, ออกไซด์, ตัวจ่ายแก๊สด้านข้าง ...0040-31942 ตัวห้อง, ETCH, ออกไซด์, ฟีดแก๊สด้านข้าง. แหล่งที่ 2 ใหม่. AMAT Centura 5200 MXP+.
-
![715-330106-003 Chsg Mdl Rctn Chmbr Fxd Gap แหล่งที่ 2 ใหม่]()
715-330106-003 Chsg Mdl Rctn Chmbr Fxd Gap แหล่งที่ 2 ใหม่715-330106-003 CHSG MDL RCTN CHMBR FXD GAP. แหล่งที่ 2 ใหม่. ลำวิจัย.
-
![0040-09893 ตัวห้อง,R2,ขอบป้อนก๊าซแหล่งที่ 2 ใหม่]()
0040-09893 ตัวห้อง,R2,ขอบป้อนก๊าซแหล่งที่ 2 ใหม่0040-09893 ตัวห้อง,R2,ฟีดแก๊สแบบขอบ. แหล่งที่ 2 ใหม่. อมตะ เมทัล เอตช์ 5000.
-
![0021-35922 Chamber Body, Txz Mcvd แหล่งที่ 2 ใหม่]()
0021-35922 Chamber Body, Txz Mcvd แหล่งที่ 2 ใหม่0021-35922 ตัวห้อง, TXZ MCVD. แหล่งที่ 2 ใหม่. TXZ เอ็มซีวีดี.
Lisa Hintz
William Peguero
John Gentry
แอนแอ๊บบอต
Kenneth LeBlanc
โรเบิร์ตเอิร์ล